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真空镀膜工艺之溅射镀膜的工作原理
文章来源:古德邦车标  发布时间:2016-05-26  浏览次数:

    真空镀膜,一般是指用物理的方法沉积薄膜。目前真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。那么什么是溅射镀膜呢?

  用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面,沉积在基片上,这就是溅射现象。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术,1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。

  通常将欲沉积的材料制成板材“靶”固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。系统抽至高真空后充入10~1帕的气体(通常为氩气),在阴极和阳极间加几千伏电压,两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极,与靶表面原子碰撞,受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。

  与蒸发镀膜不同,溅射镀膜不受膜材熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法,即将反应气体(O、N、HS、CH等)加入Ar气中,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉积在基片上。沉积绝缘膜可采用高频溅射法。基片装在接地的电极上,绝缘靶装在对面的电极上。高频电源一端接地,一端通过匹配网络和隔直流电容接到装有绝缘靶的电极上。接通高频电源后,高频电压不断改变极性。等离子体中的电子和正离子在电压的正半周和负半周分别打到绝缘靶上。由于电子迁移率高于正离子,绝缘靶表面带负电,在达到动态平衡时,靶处于负的偏置电位,从而使正离子对靶的溅射持续进行。采用磁控溅射可使沉积速率比非磁控溅射提高近一个数量级。

 

真空镀膜

 

   古德邦电镀加工技术参数

型号:非金属制品电镀加工

品牌

古德邦(Goodbong)

电镀加工形式

真空镀膜

制作周期

4~10

可电镀材质

 塑料(PMMA、ABS、PVC)、树脂、玻璃制品 等非金属

可电镀颜色

金色、银色、紫色 等纯色

使用寿命

外镀3-5年,内镀5-7年

电镀规格

根据所电镀产品尺寸标准

最大可电镀尺寸

1.5m*5m

电镀工艺

标准工艺

古德邦电镀优势

色泽清晰美观,呈不锈钢效果,耐磨耐用

电镀产品包装

近距离坚固纸箱,远距离木箱包装

物流运输

陆运、海运、空运,国内3~5天,国外5~20

 

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关于我们

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